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原位激光過程氣體分析儀（單端式）產(chǎn)品介紹
GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù)（TDLAS）的高性能光學分析儀器，無需采樣預處理系統(tǒng)，能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環(huán)境下進行原位氣體濃度測量。
原位激光過程氣體分析儀（單端式）產(chǎn)品特性
采用TDLAS技術(shù)，被測氣體不受背景氣體交叉干擾
單端開孔，無需對光；直插式設(shè)計，極大簡化了安裝調(diào)試
無需采樣預處理系統(tǒng)，實時快速測量
內(nèi)置標準氣體參比模塊，動態(tài)補償，實時鎖住吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響
可用于惡劣工業(yè)環(huán)境中，抗化學腐蝕、高粉塵、高水分
原位激光過程氣體分析儀（單端式）技術(shù)參數(shù)
| 性能參數(shù) | |
| 測量組分 | O2、CO2、CO、CH4（可定制） |
| 測量原理 | TDLAS |
| 測量范圍 | 0~2%VOL（可定制） |
| 精度 | ≤±1%F.S. |
| 重復性 | ≤±1% |
| 分辨率 | 0.01%VOL |
| 響應時間 | T90≤4s |
| 工作參數(shù) | |
| 環(huán)境溫度 | -20~60℃ |
| 工作電源 | 24V DC |
| 吹掃氣源 | 0.3~0.8MPa工業(yè)氮氣 |
| 接口信號 | |
| 通訊接口 | RS-485 |
| 輸出模式 | 4~20mA |
